Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond 著者: Guilei Wang 出版 Springer. 以下のデジタルおよびeTextbook ISBNs: Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond : 9789811500466, 9811500460 および 印刷版のISBNは 9789811500459, 9811500452. VitalSource でデジタル化することで、印刷に比べて最大 80% 節約できます。
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