Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond

Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond verfasst von Guilei Wang und veröffentlicht von Springer. Die Digital- und eTextbook-ISBNs für Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond lauten 9789811500466, 9811500460 und die Druck-ISBNs lauten 9789811500459, 9811500452. Spare durch digitales Arbeiten mit VitalSource bis zu 80% gegenüber Druck.

Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond verfasst von Guilei Wang und veröffentlicht von Springer. Die Digital- und eTextbook-ISBNs für Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond lauten 9789811500466, 9811500460 und die Druck-ISBNs lauten 9789811500459, 9811500452. Spare durch digitales Arbeiten mit VitalSource bis zu 80% gegenüber Druck.